Dr. Annemarie Finzel

Wissenschaftliche Mitarbeiterin / Ionenstrahgestützte Technologien / Physikalische Abteilung

Leibniz-Institut für Oberflächenmodifizierung e. V.
Permoserstr. 15 / D-04318 / Leipzig /


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  1. C. Bundesmann, T. Lautenschläger, D. Spemann, A. Finzel, M. Mensing, F. Frost,
    Correlation of process parameters and properties of TiO2 films grown by ion beam sputter deposition from a ceramic target
    Eur. Phys. J. B. 90 (2017) 187 (1-11)

  2. C.Bundesmann, T. Lautenschläger, D. Spemann, A. Finzel, E. Thelander, M. Mensing, F. Frost,
    Systematic investigation of the properties of TiO2 films grown by reactive ion beam sputter deposition
    Appl. Surf. Sci. 421 (2017) 331-340

  3. J. Lehnert, D. Spemann, M. Hamza Hatahet, St. Mändl, M. Mensing, A. Finzel, A. Varga, B. Rauschenbach,
    Graphene on silicon dioxide synthesized using carbon ion implantation in copper foils with PMMA-free transfer
    Appl. Phys. Lett. 110 (2017) 233114

  4. A. Finzel, J.W. Gerlach, J. Lorbeer, F. Frost, B. Rauschenbach,
    High-fluence hyperthermal ion irradiation of gallium nitride surfaces at elevated temperatures
    Appl. Surf. Sci. 317 (2014) 811-817


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