Thomas Lautenschläger

Wissenschaftlicher Mitarbeiter / Doktorand / Ionenimplantation und Ionenquellenentwicklung / Physikalische Abteilung

Leibniz-Institut für Oberflächenmodifizierung e. V.
Permoserstr. 15 / 04318 / Leipzig /


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Liste der Publikationen >>

  1. C. Bundesmann, T. Lautenschläger, E. Thelander, D. Spemann,
    Reactive Ar ion beam sputter deposition of TiO2 films: Influence of process parameters on film properties
    Nucl. Instrum. Meth. B 395 (2017) 17-23

  2. T. Lautenschläger, R. Feder, H. Neumann, C. Rice, M. Schubert, C. Bundesmann,
    Ion beam sputtering of Ti: Influence of process parameters on angular and energy distribution of sputtered and backscattered particles
    Nucl. Instrum. Methods Phys. Res., Sect. B 385 (2016) 30-39

  3. C. Bundesmann, R. Feder, T. Lautenschläger, H. Neumann,
    Energy Distribution of Secondary Particles in Ion Beam Deposition Process of Ag: Experiment, Calculation and Simulation
    Contrib. Plasma Phys. 55 (2015) 737-746

  4. C. Bundesmann, R. Feder, T. Lautenschläger, H. Neumann,
    Energy Distribution of Secondary Particles in Ion Beam Deposition Process of Ag: Experiment, Calculation and Simulation
    Contrib. Plasma Phys. 55 (2015) 737-746


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