Philipp Schumacher

Wissenschaftlicher Mitarbeiter / Doktorand / Nichtthermische Schichtdeposition und Nanostrukturen / Physikalische Abteilung

Leibniz-Institut für Oberflächenmodifizierung e. V.
Permoserstr. 15 / D-04318 / Leipzig /


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  1. J.W. Gerlach, P. Schumacher, M. Mensing, S. Rauschenbach, I. Cermak, B. Rauschenbach,
    Ion mass and energy selective hyperthermal ion-beam assisted deposition setup
    Rev. Sci. Instrum. 88 (2017) 063306

  2. I. Hilmi, A. Lotnyk, J.W. Gerlach, P. Schumacher, B. Rauschenbach,
    Van-der-Waals epitaxy of layered chalcogenide Sb2Te3 thin films grown by pulsed laser deposition
    APL Materials 5 (2017) 050701

  3. I. Hilmi, A. Lotnyk, J. W. Gerlach, P. Schumacher, B. Rauschenbach,
    Epitaxial formation of cubic and trigonal Ge-Sb-Te thin films with heterogeneous vacancy structures
    Mater. Design 115 (2017) 138-146

  4. I. Hilmi, E. Thelander, P. Schumacher, J. W. Gerlach, B. Rauschenbach ,
    Epitaxial Ge2Sb2Te5 Films on Si(111) prepared by pulsed laser deposition
    Thin Solid Films 619 (2016) 81-85,10.1016/j.tsf.2016.


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