Musterbildung auf Si- und Ge-Oberflächen durch niederenergetische Ionenstrahlerosion
Dr. F. Frost
Prof. Dr. B. Rauschenbach
Leibniz-Institut für Oberflächenmodifizierung e.V.
Das Ziel dieses Teilprojektes ist es, die komplexen Zusammenhänge bei der ionenbeschuss-induzierten Musterbildung auf Si- und Ge-Oberflächen im Detail zu verstehen. Aufbauend auf Voruntersuchungen werden die unterschiedlichen Erosionsformen auf diesen beiden Modelloberflächen klassifiziert und ausgewählte Erosionsformen bzw. -muster systematisch charakterisiert. Im weiteren Fokus stehen dabei detaillierte Untersuchungen zu den Übergangsbereichen zwischen den unterschiedlichen Mustern und zum Einfluss verschiedener prozessrelevanter Parameter (z. B. Ioneneinfallswinkel, Fluenz, Substratbewegung) auf den Musterbildungsprozess. Ziel dieser Untersuchungen ist das tiefere Verständnis der Selbstorganisationsprozesse sowie der zugrunde liegenden mikroskopischen bzw. atomaren Mechanismen. So soll experimentell die Frage nach der physikalischen Bedeutung des Dämpfungsterms, den man gegenwärtig bei der Modellierung mittels stochastischer nichtlinearer Feldgleichungen benötigt, um typische ionenstrahl-induzierte Muster zu simulieren, geklärt werden und weiterhin, im Zusammenwirken mit den theoretisch ausgerichteten Teilprojekten, die dominierenden Oberflächenrelaxationsprozesse identifiziert werden. Ebenfalls in enger Kooperation mit den theoretisch orientierten Teilprojekten sollen zusätzlich Experimente zur Überprüfung verschiedener auf den Simulationsrechnungen basierender Hypothesen durchgeführt werden. Darüber hinaus kommt dem Teilprojekt eine wichtige Servicefunktion zu, indem es u. a. nanostrukturierte Oberflächen für andere Teilprojekte zur Verfügung stellt.
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