Ionenstrahlgestützte Technologien

Nanostrukture
Nanostrukturen auf einer Silizium-Oberfläche, hergestellt durch Selbst-organisationsprozesse während der Ionenstrahlerosion mit Fe-Kodeposition.

Gegenstand dieses Arbeitsschwerpunktes sind Grundlagenuntersuchungen auf den Forschungsgebieten der Herstellung von Nano- und Mikrostrukturen mittels Maskierungen und (reaktivem) Ionenstrahlätzen, auch RIBE genannt, der Musterbildung durch ionenstrahlinduzierte Selbstorganisation auf verschiedenen Oberflächen und Glättung sowie Planarisierung von Oberflächen während des Ionenstrahlbeschusses.

Das vorrangige Ziel ist dabei die Erarbeitung von Technologieschritten mit Toleranzen im Nanometer- und Sub-Nanometer-Bereich bis hin zur Einführung dieser Prozesse in die Produktionspraxis. Die Erarbeitung der Forschungsergebnisse und deren Transfer erfolgt u.a. in enger Zusammenarbeit mit Partnern aus der optischen Industrie sowie der Mikroelektronik und dem Maschinenbau.

Ausgewählte Publikationen

  • M. Teichmann, J. Lorbeer, B. Ziberi, F. Frost, B. Rauschenbach, Pattern formation on Ge by low energy ion beam erosion, New Journal of Physics 15 (2013), 103029.

  • F. Frost, R. Fechner, J. Lorbeer, M. Teichmann, A. Schindler, R. Steiner, M. Burkhardt, L. Erdmann, T. Gase, T. Glaser, A. Gatto, Mikro- und Nanostrukturierung optischer Oberflächen durch Ionenstrahlprozesse, Proc. 3. Kolloquium „Dünne Schichten in der Optik“, Leipzig (2012), 345 – 349.

  • F. Frost, R. Fechner, B. Ziberi, J. Völlner, D. Flamm, A. Schindler (topical review), Large area smoothing of surfaces by ion bombardment: Fundamentals and applications, Journal of Physics: Condensed Matter 21 (2009), 224026.