Ionenstrahlprozesse
Aktuelle Anforderungen an optische Elemente erfordern ein Höchstmaß an Präzision in Bezug auf Formgenauigkeit und Rauheit. Die Kenntnis des Abtrages eines Ionen- oder Plasmastrahls auf Materialien wie Gläser, Glaskeramiken und Halbleitern ist essentiell, um eine Vorhersage des Abtrages zu berechnen und gezielt steuern zu können. Die Abtragsprofile von Ionen- und Plasmaquellen können mit am IOM entwickelten Programmpaketen berechnet werden, welche diesen Prozess vollständig abbilden.