Excimerstrahler

Das IOM beschäftigt sich bereits über 15 Jahre mit dem Einsatz von Excimerstrahlern als Strahlenquellen für technologische Prozesse zur Schichthärtung und -modifizierung. Insbesondere XeCl*-, KrCl* und Xe₂*-Strahler wurden mit Kooperationspartnern für unterschiedlichste Industrieeinsätze angepasst und optimiert. Dazu zählen Entwicklungen für die Peripherie der Strahler wie Inertisierung, elektronische Messsysteme für Dosis und Dosisleistung sowie Sauerstoffkonzentration. Es wurden aber auch Arbeiten zur Optimierung des eigentlichen Strahlerbetriebs durchgeführt, die Untersuchungen des Einflusses von Parametern wie Hochspannung, Betriebsfrequenz und Reflektorgeometrie auf Wirkungsgrad und Ausgangsleistung zum Gegenstand hatten und deren Ergebnisse in Industrieprojekten verwertet wurden. Für eigene Forschungen wurde ein offener Ar₂*-Excimerstrahler entwickelt und aufgebaut.

Prinzipskizze eines offenen Ar₂*-Excimerstrahlers (Patent EP 1050395 A2)

Abhängigkeit des Wirkungsgrades PVUV/PHF eines Xe₂*-Excimerstrahlers von der hochfrequenten Betriebsspannung (Strahler Fa. Heraeus Noblelight, Hanau)

Computergestütztes mobiles Messsystem für Dosis und Dosisleistung von UV- und VUV-Strahlern (Fa. EPIGAP, Berlin)

Ausgewählte Publikationen

C. Elsner, M. Lenk, L. Prager, R. Mehnert, Windowless argon excimer source for surface modification, Appl. Surf. Sci. 252 (2006) 3616-3624.
R. Mehnert and M. Lenk, EU Patent EP 1050395 A2 (2000).

Kontakt

Dr. Lutz Prager
Tel.: +49 (0)341 235-2428, email: lutz.prager (at) iom-leipzig (Punkt) de

Dr. Rolf Schubert
Tel.: +49 (0)341 235-4009, email: info (at) iom-leipzig.de

Axel Sobottka
Tel.: +49 (0)341 235-2387, email: axel.sobottka (at) iom-leipzig (Punkt) de

Siehe auch

Kurzwellige Excimer-UV-Strahler zur Strukturierung von Lackoberflächen