Neue metastabile Materialien durch den Eintrag von potentieller Energie beim flachen Implantieren von mehrfach geladenen Ionen

Mikrostruktur und Eigenschaften von dünnen Schichten werden durch das Filmmaterial, die Art und den Zustand der Substratoberfläche und die Prozessparameter der Abscheidung bestimmt. Bei plasma-basierten Prozessen können kristalline Schichten bei relativ niedriger Substrattemperatur hergestellt werden. Im Allgemeinen wird die kinetische Energie der Ionen genutzt, um die gewünschten strukturellen Effekte zu erzielen. Dies wird durch das Anlegen einer Vorspannung an das Substrat erreicht. Allerdings führen zu hohe Energien (>100 eV) zur Bildung von Defekten, die oft abträglich für Filmeigenschaften und damit für deren Anwendung sind. In diesem Projekt untersuchen wir theoretisch und experimentell einen alternativen Ansatz für das Wachstum neuartiger metastabiler Materialien, nämlich die Nutzung der potenziellen Energie von Ionen unter Nutzung moderater kinetischer Energien für das Implantieren dicht unter der Oberfläche, das „Subplantieren“.

Laufzeit: 2019-2022
Fördersumme: 966.260,00 Euro
Förderprogramm: Leibniz-Kooperative Exzellenz
Kooperationspartner: RWTH Aachen

Kontakt:
Prof. Dr. André Anders
Leibniz-Institut für Oberflächenmodifizierung e.V.
Direktor und Abteilungsleiter Präzisionsoberflächen IOM
Tel.: 49 (0)341 235-2308
E-Mail:  andre.anders(at)iom-leipzig.de