Ionenstrahlgestützte Technologien

RIBE-Anlage zur Bearbeitung von Flächen bis 450 mm Durchmesser

Gegenstand dieses Arbeitsschwerpunktes sind Grundlagenuntersuchungen auf den Forschungsgebieten der Herstellung von Nano- und Mikrostrukturen mittels Maskierungen und (reaktivem) Ionenstrahlätzen, auch RIBE genannt, der Musterbildung durch ionenstrahlinduzierte Selbstorganisation auf verschiedenen Oberflächen und Glättung sowie Planarisierung von Oberflächen während des Ionenstrahlbeschusses.

Das vorrangige Ziel ist dabei die Erarbeitung von Technologieschritten mit Toleranzen im Nanometer- und Sub-Nanometer-Bereich bis hin zur Einführung dieser Prozesse in die Produktionspraxis. Die Erarbeitung der Forschungsergebnisse und deren Transfer erfolgt u.a. in enger Zusammenarbeit mit Partnern aus der optischen Industrie sowie der Mikroelektronik und dem Maschinenbau.

 

Arbeitsgruppe

Dr. Frank Frost, Dr. Annemarie Finzel, Dr. Gregor Dornberg, Stephan Görsch, Dietmar Hirsch, Dieter Flamm, Andreas Nickel, Martin Mitzschke, Istvan Bucsi, Petra Hertel, Katrin Ohndorf, Karl Schubert (Bachelor-Student), Christopher Ehrich (Praktikant)