Mitarbeiterseite

Prof. Dr. André Anders

Direktor des Institutes und Vorstand /
Abteilungsleiter Physikalische Abteilung

Leibniz-Institut für Oberflächenmodifizierung e. V.
Permoserstr. 15 / 04318 / Leipzig / Germany 

Telefon: +49 (0)341 235 - 2308
Fax: +49 (0)341 235 - 2313

andre.anders(at)iom-leipzig.de

Arbeitsgebiete

  • Plasmagestützte Abscheidung von dünnen Filmen und Nanostrukturen
  • Plasma- und Ionenquellen
  • Plasmadiagnostik
  • Metallplasmen durch Bogen- und HiPIMS-Technologien
  • Oxide, Nitride, Diamantartige Schichten, Elektro- und Thermochromische Systeme

Wissenschaftlicher Werdegang

André Anders ist der Direktor und Vorstand des Leibniz-Institutes für Oberflächenmodifizierung e.V. in Leipzig und Professor für Angewandte Physik am Felix-Bloch-Institut der Universität Leipzig. Vor seiner Berufung arbeitete er als Wissenschaftlicher Mitarbeiter und Gruppenleiter am Lawrence Berkeley National Laboratory in Berkeley, Kalifornien. Seine wissenschaftliche Ausbildung begann mit dem Studium der Physik in Wroclaw (Polen), die er dann in Berlin (damals DDR) und Moskau (damals Soviet Union) fortgesetzt hat, um seinen Doktortitel von der Humboldt-Universität Berlin zu bekommen. Dr. Anders hat über 30 Jahre auf dem Gebiet der Plasmaphysik und Materialwissenschaft gearbeitet, und dabei verschiedene innovative Technologien entwickelt. Seine Arbeiten sind in drei Büchern und über 300 Journalartikeln publiziert (Hirsch-Faktor 63 mit ca. 15.000 Zitaten, Google Scholar). Er ist in mehreren Konferenz- und Beratungsgremien tätig. Ausserdem war er Associate Editor für das Journal of Applied Physics und ist dessen Editor-in-Chief seit 2014. Seine Arbeit wurde durch mehrere Ehrenmitgliedschaften (Fellow) in wissenschaftlichen Gesellschaften und andere Preise anerkannt.  

Ausgewählte Pubklikation

  • A. Anders,
    Cathodic Arcs: From Fractal Spots to Energetic Condensation,
    New York: Springer, 2008. Link
  • A. Anders, Ed.,
    Handbook of Plasma Immersion Ion Implantation and Deposition,
    New York: Wiley, 2000. Link
  • A. Anders,
    A Formulary For Plasma Physics,
    Berlin: Akademie-Verlag, 1990. Link
  • A. Anders, Y. Yang,
    Plasma studies of a linear magnetron operating in the range from DC to HiPIMS,
    J. Appl. Phys. 123, 043302 (2018). DOI:10.1063/1.5017857
  • A. Anders,
    High-Power Impulse Magnetron Sputtering (HiPIMS),
    in Encyclopedia of Plasma Technology, edited by J. L. Shohet (CRC Press, 2017), pp. 588-602. Link
  • A. Anders,
    Vacuum arc cathode spots,
    in Encyclopedia of Plasma Technology, edited by J. L. Shohet (CRC Press, 2017), pp. 1492-1498. Link
  • A. Anders,
    Tutorial: Reactive High Power Impulse Magnetron Sputtering (R-HiPIMS),
    J. Appl. Phys. 121, 171101 (2017). DOI:10.1063/1.4978350
  • M. Panjan, A. Anders,
    Plasma potential of a moving ionization zone in DC magnetron sputtering,
    J. Appl. Phys. 121, 063302 (2017). DOI:10.1063/1.4974944
  • A. Anders, Y. Yang,
    Direct observation of spoke evolution in magnetron sputtering,
    Appl. Phys. Lett. 111, 064103 (2017). DOI:10.1063/1.4994192
  • T. Rembert, C. Battaglia, A. Anders, A. Javey,
    Room temperature oxide deposition approach to fully transparent, all-oxide thin-film transistors,
    Advanced Materials 27, 6090 (2015). DOI:10.1002/adma.201502159

http://www.researcherid.com/rid/B-8580-2009 or http://orcid.org/0000-0002-5313-6505

Mitgliedschaften

  • Fellow of the American Vacuum Society (AVS), 2011
  • Fellow of the American Physical Society (APS), 2008
  • Fellow of the Institute of Electrical and Electronic Engineers (IEEE), 2000
  • Fellow of the Institute of Physics (IoP), 1998

Auszeichnungen

  • Nathaniel Sugerman Memorial Award, Society of Vacuum Coaters, 2016
  • Walter P. Dyke Award, Int. Symp. Discharges and Electrical Insulation, 2014
  • Mentor Award of the Society of Vacuum Coaters,2011
  • Merit Award of IEEE, Nuclear and Plasma Science Societies, 2010
  • R&D 100 Award for a Pulsed Filtered Arc Deposition System, 2009
  • R&D 100 Award for the Development of the Constricted Plasma Source, 1997
  • Paul A. Chatterton Young Investigator Award (ISDEIV-IEEE), 1994