Martin Rudolph arbeitet an der Schnittstelle zwischen Plasmaphysik, Plasmachemie und Plasma Engineering. Er nutzt dabei den intrinsischen Nicht-Gleichgewichtszustand kalter Plas­maquellen um gewünschte Plasmaspezies zu produzieren. Anwendungen liegen in der ioni­sierten physikalische Gasphasenabscheidung mit einem Schwerpunkt auf Hochleistungsim­puls-Magnetronsputtern (engl. HiPIMS) und der Plasmakonversion von nasschemisch aufge­tragenen Lagen zu funktionellen festen Dünnschichten mittels Atmosphärendruckplasmen.

Martin Rudolph leitet die Querschnittseinheit „Modellierung und Simulation" am Leibniz Institut für Oberflächen­modifizierung (IOM) seit 2023. Er promovierte 2017 am Laboratoire de Physique des Gaz et des Plasma (LPGP) der Universite Paris-Saclay und hat einen M.Sc. in Space Science and Technology, der Luleå Tekniska Universitet und einen Master in Physique et Astrophysique der Université Paul Sabatier in Toulouse, Frankreich.

• M. Rudolph, P. Birtel, T. Arnold, A. Prager, S. Naumov, U. Helmstedt, A. Anders, P. C. With
  Low-temperature atmos­pheric pressure plasma conversion of polydimethylsiloxane and polysilazane precursor layers to oxide thin films
  Plasma Process. Polym., e2200229, 2023
  https://doi.org/10.1002/ppap.202200229
• M. Rudolph, N. Brenning, H. Hajihoseini, M. A. Raadu, T. M. Minea, A. Anders, J. T. Gudmundsson, D. Lundin
  lnflu­ence of the magnetic field on the discharge physics of a high power im pulse magnetron sputtering discharge
  J. Phys. D: Appl. Phys. 55, 015202, 2022
  https://doi.org/10.1088/1361-6463/ac2968
• M. Rudolph, N. Brenning, H. Hajihoseini, M. A. Raadu, J. Fischer, J. T. Gudmundsson, D. Lundin
  Operating modes and target erosion in high power impulse magnetron sputtering
  J. Vac. Sci. Technol. A 40, 043005, 2022
  https://doi.org/10.1116/6.0001919
• M. Rudolph, D. Kalanov, W. Diyatmika, A. Anders
  Electron transport in high power impulse magnetron sputtering at low and high working gas pressure
  J. Appl. Phys. 130, 243301, 2021
  https://doi.org/10.1063/5.0075744
• M. Rudolph, A. Revel, D. Lundin, H. Hajihoseini, N. Brenning, M. A. Raadu, A. Anders, T. M. Minea, J. T. Gudmunds­son
  On the electron energy distribution function in the high power impulse magnetron sputtering discharge Plasma Soures
  Plasma Sources Sci. Technol. 30, 045011, 2021
  DOI 10.1088/1361-6595/abefa8
• M. Rudolph, I. Vickridge, E. Foy, J. Alvarez, J.-P. Kleider, D. Stanescu, H. Magnan, N. Herlin-Boime, B. Bouchet-Fabre, T. Minea, M.-C. Hugon
  Oxygen incorporated during deposition determines the crystallinity of magnetron-sputtered Ta₃NS films
  Thin Solid Films 685, 204-209, 2019
  https://doi.org/10.1016/j.tsf.2019.06.031

• Deutsche Physikalische Gesellschaft e.V. (DPG): https://www.dpg-physik.de
• Deutsche Gesellschaft für Plasmatechnologie e.V. (DGPT): https://www.plasmatechnologie.org
• DSC Arminia Bielefeld (ASC): https://www.arminia.de