Prof. Dr. André Anders

Direktor und Vorstand des IOM

Leibniz-Institut für Oberflächenmodifizierung (IOM)
Permoserstr. 15 / 04318 Leipzig / Germany

   +49 (0)341 235-2308
   andre.anders(at)iom-leipzig.de

Arbeitsgebiete

  • Plasmagestützte Abscheidung von dünnen Filmen und Nanostrukturen
  • Plasma- und Ionenquellen
  • Plasmadiagnostik
  • Metallplasmen durch Bogen- und HiPIMS-Technologien
  • Oxide, Nitride, Diamantartige Schichten, Elektro- und Thermochromische Systeme

Wissenschaftlicher Werdegang

André Anders ist der Direktor und Vorstand des Leibniz-Institutes für Oberflächenmodifizierung e.V. in Leipzig und Professor für Angewandte Physik am Felix-Bloch-Institut der Universität Leipzig. Vor seiner Berufung arbeitete er als Wissenschaftlicher Mitarbeiter und Gruppenleiter am Lawrence Berkeley National Laboratory in Berkeley, Kalifornien. Seine wissenschaftliche Ausbildung begann mit dem Studium der Physik in Wroclaw (Polen), die er dann in Berlin (damals DDR) und Moskau (damals Sowjetunion) fortgesetzt hat, um seinen Doktortitel von der Humboldt-Universität Berlin zu bekommen. Dr. Anders hat über 35 Jahre auf dem Gebiet der Plasmaphysik und Materialwissenschaft gearbeitet, und dabei verschiedene innovative Technologien entwickelt. Seine Arbeiten sind in drei Büchern und über 350 Journalartikeln publiziert (H-Faktor 77 mit über 23.700 Zitaten, Google Scholar 2024). Er ist in mehreren Konferenz- und Beratungsgremien tätig. Von 2014 bis 2024 war er Editor-in-Chief für das Journal of Applied Physics (AIP Publishing, Melville, New York). Seine Arbeit wurde durch mehrere Ehrenmitgliedschaften (Fellow) in wissenschaftlichen Gesellschaften und andere Preise anerkannt.

Ausgewählte Publikationen

  1. A. Anders, A structure zone diagram including plasma-based deposition and ion etching, Thin Solid Films 518, 4087 (2010)
  2. A. Anders, Cathodic Arcs: From Fractal Spots to Energetic Condensation, New York: Springer, 2008. Link
  3. A. Anders, Ed., Handbook of Plasma Immersion Ion Implantation and Deposition, New York: Wiley, 2000. Link
  4. A. Anders, A Formulary For Plasma Physics, Berlin: Akademie-Verlag, 1990. Link
  5. A. Anders, Y. Yang, Plasma studies of a linear magnetron operating in the range from DC to HiPIMS, J. Appl. Phys. 123, 043302 (2018). DOI:10.1063/1.5017857
  6. A. Anders, High-Power Impulse Magnetron Sputtering (HiPIMS), in Encyclopedia of Plasma Technology, edited by J. L. Shohet (CRC Press, 2017), pp. 588-602. Link
  7. A. Anders, Vacuum arc cathode spots, in Encyclopedia of Plasma Technology, edited by J. L. Shohet (CRC Press, 2017), pp. 1492-1498. Link
  8. A. Anders, Tutorial: Reactive High Power Impulse Magnetron Sputtering (R-HiPIMS), J. Appl. Phys. 121, 171101 (2017). DOI:10.1063/1.4978350
  9. M. Panjan, A. Anders, Plasma potential of a moving ionization zone in DC magnetron sputtering, J. Appl. Phys. 121, 063302 (2017). DOI:10.1063/1.4974944
  10. A. Anders, Y. Yang, Direct observation of spoke evolution in magnetron sputtering, Appl. Phys. Lett. 111, 064103 (2017). DOI:10.1063/1.4994192
  11. T. Rembert, C. Battaglia, A. Anders, A. Javey, Room temperature oxide deposition approach to fully transparent, all-oxide thin-film transistors, Advanced Materials 27, 6090 (2015). DOI:10.1002/adma.201502159
  12. https://www.researcherid.com/rid/B-8580-2009 or https://orcid.org/0000-0002-5313-6505.

Mitgliedschaften

  • Fellow of the American Vacuum Society (AVS), 2011
  • Fellow of the American Physical Society (APS), 2008
  • Fellow of the Institute of Electrical and Electronic Engineers (IEEE), 2000
  • Fellow of the Institute of Physics (IoP), 1998

Auszeichnungen

  • R.F. Bunshah Award, ICMCTF (AVS) 2021
  • Nathaniel Sugerman Memorial Award, Society of Vacuum Coaters, 2016
  • Walter P. Dyke Award, Int. Symp. Discharges and Electrical Insulation, 2014
  • Mentor Award of the Society of Vacuum Coaters, 2011
  • Merit Award of IEEE, Nuclear and Plasma Science Societies, 2010
  • R&D 100 Award for a Pulsed Filtered Arc Deposition System, 2009
  • R&D 100 Award for the Development of the Constricted Plasma Source, 1997
  • Paul A. Chatterton Young Investigator Award (ISDEIV-IEEE), 1994

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