Dr. Martin Rudolph, Forscher am IOM und Ko-Leiter der Querschnittseinheit „Modellierung und Simulation“, wird mit dem Early Career Award der European Society of Thin Films ausgezeichnet.

Seine Arbeit enthüllt wichtige Mechanismen, die HiPIMS-Entladungen (High Power Impulse Magnetron Sputtering) antreiben. Die Erkenntnisse, die sowohl aus Modellierung als auch aus experimenteller Plasmadiagnostik gewonnen wurden, sind entscheidend für die wissensbasierte Entwicklung von Dünnschichtabscheideverfahren und werden dazu beitragen, Innovationen im Labor und in der Industrie in Zukunft zu beschleunigen.

Als Plasmaphysiker beschäftigt sich Martin Rudolph mit der Entschlüsselung grundlegender Mechanismen in Plasmaprozessen. Seine Forschung verbindet experimentelle Plasmadiagnostik, insbesondere bildgebende Verfahren und Emissionsspektroskopie, mit der Modellierung der beobachteten Phänomene. Ein besonderer Schwerpunkt liegt auf recheneffizienten Modellen, mit denen sich der große Parameterraum von Plasmaentladungen systematisch und gezielt untersuchen lässt.

Die Auszeichnung würdigt herausragende wissenschaftliche Leistungen von Nachwuchsforschenden im Bereich Plasma Surface Engineering und angrenzender Fachgebiete und wird im Rahmen der 20thInternational Conference on Plasma Surface Engineering PSE 2026 verliehen, die vom 31. August bis 3. September 2026 in Erfurt stattfindet.

Das IOM gratuliert Dr. Martin Rudolph herzlich zu dieser besonderen Auszeichnung und wünscht ihm weiterhin viel Erfolg für seine wissenschaftliche Arbeit.