Dr. Martin Rudolph

Leiter "Modellierung und Simulation"
Leibniz-Institut für Oberflächenmodifizierung (IOM)
Permoserstr. 15 / 04318 Leipzig / Germany
+49 (0)341 235-2727
martin.rudolph(a)iom-leipzig.de
Arbeitsgebiete
Als Plasmaphysiker bin ich interessiert an der Entschlüsselung der Mechanismen in Plasmaprozessen. Meine Arbeit vereint experimentelle Plasmadiagnostik – insbesondere bildgebende Verfahren und Emissionsspektroskopie – mit der Modellierung von Beobachtungen. Ein besonderer Schwerpunkt liegt auf recheneffizienten Modellen, die es ermöglichen, den großen Parameterraum von Plasmaentladungen gezielt zu erkunden. Maschinelles Lernen ist ein integraler Bestandteil meiner Forschung. Es unterstützt die Vorhersage experimenteller Ergebnisse, optimiert Plasmaprozesse und ermöglicht die Analyse komplexer Wechselwirkungen zwischen Entladungsparametern. Anwendungsfelder liegen im High Power Impulse Magnetron Sputtering (HiPIMS) bei niedrigen Drücken zur Dünnschichtabscheidung, und Atmosphärendruckplasmen zur Konversion organischer Schichten in funktionale Oxide.
Wissenschaftlicher Werdegang
Seit 2023 ko-leite ich die Querschnittseinheit „Modellierung und Simulation“ am Leibniz-Institut für Oberflächenmodifizierung (IOM). Meine wissenschaftliche Laufbahn begann in Frankreich, wo ich 2017 am Laboratoire de Physique des Gaz et des Plasmas (LPGP) der Université Paris-Saclay promovierte. Zuvor habe einen M.Sc. in Space Science and Technology an der Luleå Tekniska Universitet in Schweden und einen Master in Physik und Astrophysik an der Université Paul Sabatier in Toulouse gemacht.
Ausgewählte Publikationen
M. Rudolph, W. Diyatmika, O. Rattunde, E. Schuengel, D. Kalanov, J. Patscheider, A. Anders
Generating spokes in direct current magnetron sputtering discharges by an azimuthal strong-to-weak magnetic field strength transition
Plasma Sources Sci. Technol. 33, 045002, 2024
https://doi.org/10.1088/1361-6595/ad34f7- M. Rudolph, P. Birtel, T. Arnold, A. Prager, S. Naumov, U. Helmstedt, A. Anders, P. C. With
Low-temperature atmospheric pressure plasma conversion of polydimethylsiloxane and polysilazane precursor layers to oxide thin films
Plasma Process. Polym., e2200229, 2023
https://doi.org/10.1002/ppap.202200229 - M. Rudolph, N. Brenning, H. Hajihoseini, M. A. Raadu, T. M. Minea, A. Anders, J. T. Gudmundsson, D. Lundin
lnfluence of the magnetic field on the discharge physics of a high power im pulse magnetron sputtering discharge
J. Phys. D: Appl. Phys. 55, 015202, 2022
https://doi.org/10.1088/1361-6463/ac2968 - M. Rudolph, N. Brenning, H. Hajihoseini, M. A. Raadu, J. Fischer, J. T. Gudmundsson, D. Lundin
Operating modes and target erosion in high power impulse magnetron sputtering
J. Vac. Sci. Technol. A 40, 043005, 2022
https://doi.org/10.1116/6.0001919 - M. Rudolph, D. Kalanov, W. Diyatmika, A. Anders
Electron transport in high power impulse magnetron sputtering at low and high working gas pressure
J. Appl. Phys. 130, 243301, 2021
https://doi.org/10.1063/5.0075744 - M. Rudolph, A. Revel, D. Lundin, H. Hajihoseini, N. Brenning, M. A. Raadu, A. Anders, T. M. Minea, J. T. Gudmundsson
On the electron energy distribution function in the high power impulse magnetron sputtering discharge Plasma Soures
Plasma Sources Sci. Technol. 30, 045011, 2021
DOI 10.1088/1361-6595/abefa8 - M. Rudolph, I. Vickridge, E. Foy, J. Alvarez, J.-P. Kleider, D. Stanescu, H. Magnan, N. Herlin-Boime, B. Bouchet-Fabre, T. Minea, M.-C. Hugon
Oxygen incorporated during deposition determines the crystallinity of magnetron-sputtered Ta3NS films
Thin Solid Films 685, 204-209, 2019
https://doi.org/10.1016/j.tsf.2019.06.031
Mitgliedschaften
- Deutsche Physikalische Gesellschaft e.V. (DPG): https://www.dpg-physik.de
- Deutsche Gesellschaft für Plasmatechnologie e.V. (DGPT): https://www.dgpt.eu/
- DSC Arminia Bielefeld (ASC): https://www.arminia.de