Dr. Martin Rudolph
Leiter "Modellierung und Simulation"
Leibniz-Institut für Oberflächenmodifizierung (IOM)
Permoserstr. 15 / 04318 Leipzig / Germany
+49 (0)341 235-4030
martin.rudolph(a)iom-leipzig.de
Arbeitsgebiete
Martin Rudolph arbeitet an der Schnittstelle zwischen Plasmaphysik, Plasmachemie und Plasma Engineering. Er nutzt dabei den intrinsischen Nicht-Gleichgewichtszustand kalter Plasmaquellen um gewünschte Plasmaspezies zu produzieren. Anwendungen liegen in der ionisierten physikalische Gasphasenabscheidung mit einem Schwerpunkt auf Hochleistungsimpuls-Magnetronsputtern (engl. HiPIMS) und der Plasmakonversion von nasschemisch aufgetragenen Lagen zu funktionellen festen Dünnschichten mittels Atmosphärendruckplasmen.
Wissenschaftlicher Werdegang
Martin Rudolph leitet die Querschnittseinheit „Modellierung und Simulation" am Leibniz Institut für Oberflächenmodifizierung (IOM) seit 2023. Er promovierte 2017 am Laboratoire de Physique des Gaz et des Plasma (LPGP) der Universite Paris-Saclay und hat einen M.Sc. in Space Science and Technology, der Luleå Tekniska Universitet und einen Master in Physique et Astrophysique der Université Paul Sabatier in Toulouse, Frankreich.
Ausgewählte Publikationen
M. Rudolph, W. Diyatmika, O. Rattunde, E. Schuengel, D. Kalanov, J. Patscheider, A. Anders
Generating spokes in direct current magnetron sputtering discharges by an azimuthal strong-to-weak magnetic field strength transition
Plasma Sources Sci. Technol. 33, 045002, 2024
https://doi.org/10.1088/1361-6595/ad34f7- M. Rudolph, P. Birtel, T. Arnold, A. Prager, S. Naumov, U. Helmstedt, A. Anders, P. C. With
Low-temperature atmospheric pressure plasma conversion of polydimethylsiloxane and polysilazane precursor layers to oxide thin films
Plasma Process. Polym., e2200229, 2023
https://doi.org/10.1002/ppap.202200229 - M. Rudolph, N. Brenning, H. Hajihoseini, M. A. Raadu, T. M. Minea, A. Anders, J. T. Gudmundsson, D. Lundin
lnfluence of the magnetic field on the discharge physics of a high power im pulse magnetron sputtering discharge
J. Phys. D: Appl. Phys. 55, 015202, 2022
https://doi.org/10.1088/1361-6463/ac2968 - M. Rudolph, N. Brenning, H. Hajihoseini, M. A. Raadu, J. Fischer, J. T. Gudmundsson, D. Lundin
Operating modes and target erosion in high power impulse magnetron sputtering
J. Vac. Sci. Technol. A 40, 043005, 2022
https://doi.org/10.1116/6.0001919 - M. Rudolph, D. Kalanov, W. Diyatmika, A. Anders
Electron transport in high power impulse magnetron sputtering at low and high working gas pressure
J. Appl. Phys. 130, 243301, 2021
https://doi.org/10.1063/5.0075744 - M. Rudolph, A. Revel, D. Lundin, H. Hajihoseini, N. Brenning, M. A. Raadu, A. Anders, T. M. Minea, J. T. Gudmundsson
On the electron energy distribution function in the high power impulse magnetron sputtering discharge Plasma Soures
Plasma Sources Sci. Technol. 30, 045011, 2021
DOI 10.1088/1361-6595/abefa8 - M. Rudolph, I. Vickridge, E. Foy, J. Alvarez, J.-P. Kleider, D. Stanescu, H. Magnan, N. Herlin-Boime, B. Bouchet-Fabre, T. Minea, M.-C. Hugon
Oxygen incorporated during deposition determines the crystallinity of magnetron-sputtered Ta3NS films
Thin Solid Films 685, 204-209, 2019
https://doi.org/10.1016/j.tsf.2019.06.031
Mitgliedschaften
- Deutsche Physikalische Gesellschaft e.V. (DPG): https://www.dpg-physik.de
- Deutsche Gesellschaft für Plasmatechnologie e.V. (DGPT): https://www.dgpt.eu/
- DSC Arminia Bielefeld (ASC): https://www.arminia.de