Wie lassen sich Halbleitertechnologien über heutige Miniaturisierungsgrenzen hinaus weiterentwickeln? Mit dieser Frage beschäftigt sich das europäische Forschungsprojekt „10 Ångstrom CMOS Exploration“ (10ÅCe), dessen Konsortium am 27. und 28. Mai 2026 beim Projektpartner TNO in Delft zusammenkam.
Nach 24 Monaten Projektlaufzeit standen aktuelle Ergebnisse aus den Arbeitspaketen, technologische Herausforderungen und die nächsten Schritte im Mittelpunkt des Treffens. Das Projekt wird im Rahmen von Horizon Europe gefördert und ist Teil des Chips Joint Undertaking (Chips JU). Aufbauend auf dem Vorgängerprojekt IT2 – Information and Communication Technology for the 2 nm Node entwickelt 10ÅCe Ansätze für zukünftige 10-Å-CMOS-Chiptechnologien. Das Konsortium vereint führende europäische Partner aus Forschung und Industrie und deckt zentrale Bereiche der Wertschöpfungskette ab – von Chipdesign und Lithografie bis zu Prozesstechnologie und Messtechnik.
Für das IOM nahmen Dr. Frank Frost, der Leiter der Arbeitsgruppe „Ionenstrahlunterstützte Strukturierung und Glättung“, und Peter Birtel, wissenschaftlicher Mitarbeiter, am Treffen teil. Sie präsentierten aktuelle Ergebnisse zur Weiterentwicklung des EUV-Werkzeugs, insbesondere mit Blick auf kleinere Pitches und eine verbesserte Ausbeute. Mit seiner langjährigen Expertise in ionenstrahlunterstütztem Ätzen, Strukturieren und Glätten leistet das IOM einen Beitrag zu ultra-präzisen Fertigungsansätzen für optische und halbleiterbezogene Anwendungen der nächsten Generation.
Das Treffen in Delft unterstrich die Bedeutung europäischer Zusammenarbeit für die Zukunft der Mikroelektronik. Durch Konsortiumstreffen wie dieses stärkt 10ÅCe die enge Verbindung zwischen Grundlagenforschung, technologischer Entwicklung und industrieller Anwendung. Das Projekt macht deutlich, dass die nächste Generation von Halbleitertechnologien nur durch koordinierte europäische Anstrengungen, den Austausch von Fachwissen und eine langfristige strategische Zusammenarbeit erreicht werden kann. Für das IOM bedeutet die Teilnahme an diesem Konsortium, einen Beitrag zu einem Bereich zu leisten, der für die technologische Souveränität und die zukünftige Wettbewerbsfähigkeit Europas von entscheidender Bedeutung ist.
Ein besonderer Höhepunkt war die Führung durch die Forschungsinfrastruktur von TNO. Das IOM dankt Henk Lensen, Senior Project Manager bei TNO für Semicon Equipment Lifetime and Metrology, herzlich für die hervorragende Organisation des Treffens und die eindrucksvollen Einblicke während der Laborführung.