Neue Erkenntnisse über die Sputterdeposition (IBSD) von Indium-Zinn-Oxid (ITO)-Dünnschichten: ITO-Dünnschichten wurden unter systematischer Variation von Ionenstrahlparametern, geometrischen Parametern und Sauerstoffhintergrunddruck gezüchtet und hinsichtlich Schichtdicke, Wachstumsrate, kristalliner Struktur, Oberflächenrauhigkeit, Massendichte, Zusammensetzung, elektrischer und optischer Eigenschaften charakterisiert. Die Untersuchung zeigte bisher unbekannte Systematiken. So zeigen beispielsweise die Daten des elektrischen Widerstands ein komplexeres Verhalten als nur einen Anstieg mit zunehmendem Sauerstoffpartialdruck. Er wird auch sehr stark durch den Streuwinkel und die Ionenenergie beeinflusst.

Die Forschungsergebnisse wurden in der aktuellen Ausgabe des "Journal of Vacuum Science & Technology A" veröffentlicht.

C. Bundesmann, J. Bauer, A. Finzel, J.W. Gerlach, W. Knolle, A. Hellmich, R. Synowicki
Properties of indium tin oxide thin films grown by Ar ion beam sputter deposition
J. Vac. Sci. Technol. A 39 (2021) 033406

Link zum Artikel: https://avs.scitation.org/doi/10.1116/6.0000917

Kontakt: Dr. Carsten Bundesmann